光氧化技术

光催化氧化技术已成熟应用于低浓度恶臭污染场所的空气净化中。所谓光催化氧化反应（见光催化氧化原理图），就是让波长为100nm~300nm的紫外线或其他一定能量的关照射光敏半导体催化剂时，激发半导体的价带电子发生带间跃迁，即从价带跃迁到导带，从而产生光生电子（e-）和空穴（h+）。

此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子，而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性，能使有机污染物氧化分解，如果保证足够的停留时间，能氧化最终的产物CO2和H2O

光催化氧化技术优点

（1）反应条件温和，常温常压下即可进行。无需再另外添加任何氧化剂如臭氧（O3）、H2O2等化学药剂，避免了进一步的化学污染，并降低了成本；

（2）能耗低；

（3）基本上无二次污染

（4）适用性广

（5）在处理污水站恶臭废气过程中，同时具有杀菌作用。工艺及设备简单、占地面积小、易于操作控制。